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  • CP4000化學(xué)拋光機(jī)
    Chemicals typically used in prime face polishing of semiconductor wafers or electronic and optoelectronic crystals, such as Bromine Methanol or acid etches, are highly aggressive and require ......
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    更新日期

    2026-05-14
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  • Logitech CP3000化學(xué)拋光設(shè)備
    Logitech CP3000化學(xué)拋光設(shè)備能很好的滿足腐蝕拋光溶劑，同樣也適用于腐蝕性較弱的Chemlox拋光，如半導(dǎo)體晶片的背拋光。現(xiàn)在的電子器件對于晶片尺寸，表面平整度、平行度及厚度控制都有非常苛刻的控制要求，而CP3000化學(xué)拋光機(jī)，特別是跟Logitech的晶片處理系統(tǒng)配合使用作為Z后一個步驟時，能*達(dá)到這些控制標(biāo)準(zhǔn)。
    01

    更新日期

    2026-04-15
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