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  • CP4000化學(xué)拋光機(jī)
    Chemicals typically used in prime face polishing of semiconductor wafers or electronic and optoelectronic crystals, such as Bromine Methanol or acid etches, are highly aggressive and require ......
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    更新日期

    2026-05-14
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    CMP Orbis 柜式化學(xué)機(jī)械研磨拋光設(shè)備
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    更新日期

    2026-05-25
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  • CMP Tribo臺(tái)式化學(xué)機(jī)械研磨拋光設(shè)備
    CMP Tribo 臺(tái)式化學(xué)機(jī)械研磨拋光設(shè)備,The Tribo CMP system is a precision engineered, bench top solution designed with one thing in mind - the research of wafer processes
    01

    更新日期

    2026-05-25
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  • DP系列封閉式精密拋光系統(tǒng)
    The Logitech DP high speed polishing systems have been designed for semi automated ?nal stage polishing of hard materials, such as sapphire, silicon carbide or gallium nitride, to epitaxy ready qualit
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    更新日期

    2026-05-14
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  • DL系列封閉式精密研磨系統(tǒng)
    The Logitech DL precision lapping systems process materials with high geometric precision. These systems can process up to 4, 200mm/8” Ø samples （or multiple smaller samples） simultaneously.
    01

    更新日期

    2025-12-05
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